華為突然公佈EUV光刻機專利,中國的光刻機再獲突破,ASML懵了
國產的光刻機已形成了一條完整的產業鏈條,成為全球唯一擁有光刻機全產業鏈的經濟體,雙工作臺、光學系統、物鏡系統、光源系統方面都已有相關企業研發成功,如今華為在光線折射技術方面的突破,無疑將補上最後的短板,如此國產EUV光刻機成為現實的日子進一
繼光子晶片後,中國又取得量子晶片的突破,EUV光刻機已不需要了
繼光子晶片後,中國又取得量子晶片的突破,EUV光刻機已不需要了前段時間,華為和百度都宣佈了“超導量子晶片”的專利,這意味著中國的晶片技術又有了新的進展,中國的晶片產業將會迎來一個新的突破,ASML的EUV光刻機將會慢慢的被中國的晶片所取代
攤牌了?中芯、三星相繼官宣,外媒:臺積電惹眾怒了
要知道就連臺積電這樣的晶片巨頭都削減資本開支和關閉EUV光刻機,可是中芯國際,三星卻逆流而上,這意味著什麼呢
很遺憾,三種EUV光刻機替代方案,中國都表現不突出
佳能一直非常重視NIL奈米壓印技術,甚至在2021年就造出了機器,被鎧俠用於NAND快閃記憶體製造中,只不過目前精度還不太夠,不能替代EUV光刻機
國產晶片傳來好訊息,臺積電開始“回頭看”,中國院士說對了
中國院士倪光南曾經說過,國產晶片發展道路必定艱難,但是我們要一步一步走下去,放棄走捷徑彎道超車的幻想,只有將真正的技術掌握在手中,才能搶走一定的話語權
不怕錢“打水漂”?國產晶片巨頭砸456億,ASML騎虎難下了!
之所以這樣說是因為之前中芯給ASML採購的EUV光刻機,後來受到了美限制出貨的規定之後,EUV光刻機就一直沒有到貨,相當於說那一部分資金也就打了“水漂”
世界上最光滑的物體有多滑?EUV極致化光刻機,你有了解過嗎?
如果把 EUV 光刻機鏡片放大到地球那麼大,那麼它的表面粗糙度也僅僅0
外媒:臺積電“好日子”快要到頭了
但隨著臺積電在晶片行業的大清洗,市場的發展也變得更加撲朔迷離,不但晶片的利用率出現了下降,臺積電還故意將EUV光刻機停產,國外媒體更是認為,臺積電的“好日子”已經結束了
外媒稱:EUV的光刻機事件重現了
很顯然,這就像是EUV光刻機被限制了一樣,SK海力士、三星等公司,都會在中國進行大規模的生產,而老美想要達到的,就必須要得到美國的授權
實現彎道超車,0.7奈米晶片被搶先攻克
如果現階段我們想要造出更加先進的晶片,必然離不開ASML的EUV光刻機,但令人意外的是,如今老美搶先攻克了脫離EUV光刻機制造晶片的技術
上海微電子攻克90nm光刻機,能造7nm晶片嗎?與ASML差距多大呢?
ASML的EUV光刻機已經可以製造14nm以下工藝的晶片,而尼康和佳能的DUV光刻機只能製造28nm製程的晶片
外媒:臺積電正在成為“過去式”
但在3nm晶片上,轉機開始出現了,三星比臺積電早量產了3nm晶片,並對外展示了採用GAA工藝的3nm晶片,預計將會在2023年量產
曾被瞧不起,中芯國際扔出王炸,臺積電要輸?
相信大家都知道,一顆高階晶片的製造很難離開EUV光刻機,但EUV光刻機制造的難度超乎了我們的想象,不僅如此,由於老美的限制,就算我們砸錢也買不到
關於EUV出貨,ASML態度變了
如今,ASML又在研發新一代的High-NA EUV光刻機,這將更好地促進3nm晶片生產,也可用於2nm
ASML遭美坑慘,臺積電、三星已經變相倒戈,晶片的格局變清晰了
在ASML公司推出EUV光刻機之後,三星、臺積電等企業都沒有了優先購買的權利,反倒是英特爾這個美企業佔據了主導地位
外媒:ASML想通了
值得強調的是,當老美希望ASML擴大對化光刻機的出貨範圍時,ASML卻一反常態,稱限制向大陸出貨,會導致全球半導體供應鏈中斷
外媒:EUV光刻機正在被拋棄
但EUV光刻機被研發製造出來後,ASML就受到了諸多的約束,導致EUV光刻機等裝置不能自由出貨,很多廠商想買卻買不到
3個月3臺EUV光刻機,訊息得到了ASML的確認,外媒:老美要負責!
ASML已證實該郵件臺積電是ASML的大股東,在半導體產業的發展上,臺積電也是靠著光刻機的優勢,將EUV晶片的62%以上都給生產了出來
中科院開始行動後,ASML就光刻機明確表態,不打算“示好”?
比如ASML,將新光刻機交給了英特爾,而不是臺積電
臺積電官宣兩個新訊息,資訊量較大!外媒:明白了
如今,臺積電正式對外透露,將會在2024年正式擁有High-NA EUV 光刻機,該型號的光刻機將會把晶片製程縮小至2nm以下