繼光子晶片後，中國又取得量子晶片的突破，EUV光刻機已不需要了

繼光子晶片後，中國又取得量子晶片的突破，EUV光刻機已不需要了

前段時間，華為和百度都宣佈了“超導量子晶片”的專利，這意味著中國的晶片技術又有了新的進展，中國的晶片產業將會迎來一個新的突破，ASML的EUV光刻機將會慢慢的被中國的晶片所取代。

華為是中國最有技術和研究能力的公司，在晶片技術上有著豐富的經驗，臺積電等公司因為美國的禁令，已經不能為華為提供晶片，所以華為必須儘快研究出一種新的技術，來規避EUV光刻機。

不只是華為，百度在十月份公佈了一項量子晶片的專利，而合肥本源量子計算公司，也在量子晶片製造和工業設計軟體領域取得了巨大的突破。

中國被認為是未來的晶片技術，將會極大的提高晶片的運算速度，從而改變目前的晶片技術，事實上，在量子晶片領域，中國的發展速度要比其他國家更快。

據《北京日報》報道，中國將在2023年建成世界首條光電晶片生產線，這表明中國將率先在光子晶片商業化領域取得領先地位。光子晶片將比目前的矽晶片快1000倍，消耗的能量僅為矽晶片的千分之一。中國的晶片產業在量子晶片領域取得了巨大的突破。

EUV光刻機是中國晶片行業最大的障礙，因為大家都知道ASML不能在中國出口EUV光刻機，EUV光刻機在中國的晶片行業中起著至關重要的作用。

但中國並不想被EUV光刻機所束縛，中國利用現有的晶片技術，開發出了核心技術，可以讓中國的晶片效能得到極大的提高，中國的核心技術在國際上處於領先地位，AMD也批准了5nm製程，AMD向通富微電提供了接近十億美金的訂單，東莞的一家公司也開發出了3nm製程技術，這一切都證明了中國在晶片技術上的突破。

目前的晶片生產技術還需要EUV光刻機，而中國一直在尋找EUV光刻機，據說已經有幾十個專利，但EUV光刻機的生產成本太高，中國的EUV光刻機需要大量的零部件，這是一個漫長的過程，所以中國一直在大力發展新的晶片技術。

中國已經在量子晶片和光子晶片上取得了巨大的進展，這也就意味著，中國有可能超越EUV光刻機，走出ASML這條新的道路，讓中國在晶片上佔據絕對的上風。

中國加速了光子晶片的商業化，而量子晶片的開發也在加速，這對ASML的打擊實在太大了，ASML引以為傲的EUV光刻機，恐怕也要被淘汰了。