直擊業績會 | 中微公司(688012.SH):三季度經營活動現金流減少系因業務增長進行原材料備貨所致
中微公司稱,前三季度新簽訂單金額同比增長60
半導體前道裝置:國產替代空間巨大,產業鏈龍頭強者恆強
半導體前道裝置分類:資料來源:盛美招股書、廣發證券其中刻蝕、薄膜生長和光刻為半導體前道製造核心裝置,其市場規模最大
雙翼發展加快國產替代 矽材料龍頭有研矽登陸科創板續譜華章
在半個多世紀的發展歷程中,有研矽突破了半導體矽材料製造領域的關鍵核心技術,積累了豐富的半導體矽材料研發和製造經驗,在國內率先實現半導體矽片的技術突破,並於2005 年開展積體電路刻蝕裝置用矽材料產業化生產
FIB測試在材料測試中存在的重要缺陷以及改善方法
窗簾結構的產生主要和聚焦離子束切割固有的傾斜側壁有關,但如果樣品表面的外觀形態起伏以及材料不相同,就會引起表面刻蝕速度的不同,也可產生窗簾結構
光刻機突破90nm,晶片可量產14nm,中國半導體呈合圍之勢
中國半導體的合圍之勢以上這些頭部廠商帶動了上海半導體產業的發展,別看外部的供應商企業實現了EUV光刻機突破,而國內還在90nm,但是有了第一步,就會有第二步
光刻的具體步驟有哪些
刻蝕是光刻的基礎之一,光刻也是光刻技術發展壯大的最重要原因,二者的本質是一致的,基本技術原理和光刻技術並無區別,重要的是工藝和儀器裝置,沒有量產型號的光刻機就是玩具,不是理想的光刻裝置,很多國家都已禁止生產價格太高,技術不成熟的光刻機,已經
北方華創正式釋出CCP介質刻蝕機
NMC508 RIE 介質刻蝕機的推出,完成了該領域國產裝置工藝的最後一塊拼圖,實現了北方華創在 8 吋刻蝕裝置上的整體解決方案,包括矽刻蝕、深矽刻蝕、金屬刻蝕、化合物半導體刻蝕 (SiC, GaN, GaAs, InP, LiNbO3,L
中國晶片製造產業鏈的重大突破,5nm裝置即將發給臺積電
面對著中國在晶片製造產業鏈方面的突破,擁有先進光刻機的ASML已經有點著急了,ASML的高管早就表示限制對中國出貨光刻機無助於全球晶片供應鏈的良性發展,中國遲早能打破技術侷限,而中國在刻蝕機方面的突破無疑印證了ASML的預測,而ASML也開
什麼是不鏽鋼微孔網
加工尺寸精細(圓也1MM以下,線寬0
十大步驟詳解晶片光刻的流程!
所謂光刻,根據維基百科的定義,這是半導體器件製造工藝中的一個重要步驟,該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結構,然後透過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉移到所在襯底上
中國本土半導體材料崛起 神工股份進入國際先進產業鏈體系
分析人士稱,就目前保薦機構推薦的科創板企業來看,整體上可以區分為優先推薦行業及其他推薦行業領域,優先推薦領域包括新一代資訊科技、高階裝備等,神工股份是國內半導體材料市場的代表性企業,屬於優先推薦的行業領域,近年來不僅在經營業績上取得了快速提
搬石頭砸自己腳?國產芯原材裝置迎來突破,晶片禁令成為笑話!
如今掌握EUV光刻機雙工件臺技術的廠家只有ASML和我國的華卓精科,且此次華卓精科與清華團隊所研製的雙工件臺並非依葫蘆畫瓢的去仿製ASML的技術,整個雙工件臺全由科研團隊自主研發生產,在晶片製程高度、技術水準上比肩ASML
國產刻蝕機的崛起,離不開這位科技大咖,77歲還奮鬥在科研一線
要知道,中微半導體的創業團隊平均年齡都非常高,且高層在蝕刻機領域都取得過亮眼的成績,只有尹志堯成就更勝一籌
酷!邳州兩個“科技寶寶”剛一出世,就“遠嫁”了臺灣!
據瞭解,2018年3月魯汶儀器公司生產的8英寸磁儲存器刻蝕機,擊敗了國際知名刻蝕機廠商,成功拿下臺灣工研院的訂單
晶片裝置龍頭中微宣佈進軍3奈米,研發人均月薪5.5萬不及騰訊
研發人均月薪增到5.5萬元中微公司是國內刻蝕機龍頭,刻蝕是晶片製造的一個重要工藝,指的是利用化學途徑選擇性地移除晶片表面或表面覆蓋的薄膜
讓人意想不到的貼片晶振頻率微調及離子刻蝕技藝
離子刻蝕頻率微調法,是用離子束將電極膜打簿,調整石英晶振的頻率
國產刻蝕裝置憑什麼後發趕超?
中微公司從2004年創立至今,中微半導體裝置(上海)有限公司在短短十餘年時間裡追上國際先進水平(5nm),成為國內生產刻蝕機水平最高的企業之一,其背後的殺手鐧就是“研發實力”
半導體系列之“小而美”的神工股份
除此之外,物聯網、汽車電子也會刺激IC設計公司新產品的放量,從而從需求端刺激矽片投資加速,隨著行業景氣度回暖,矽片市場規模有望觸底回升,刻蝕用矽材料與矽片具備一定配比關係,也將帶動刻蝕用矽材料需求回溫