真空鍍鋁薄膜的加工方式方法和真空鍍鋁的原理

真空鍍鋁是在真空狀態下，將金屬鋁加熱熔融到蒸發狀態

，鋁原子凝結在高分子材料表面，形成極薄的鋁層。真空鍍鋁要求基材表面光滑、平整、厚度均勻；挺度和摩擦係數適當；表面張力大於

38D

ｙ

n/Cm2

；熱效能好，經得起蒸發源的熱輻射和冷凝熱的作用；基材含水量低於

0。1%

。常用的鍍鋁基材有聚酯（

PET

）、聚丙烯（

PP

）、聚醯胺（

PA

）、聚乙烯（

PE

）、聚氯乙烯（

PVC

）等薄膜，

加工時

真空度不得低於

103PA

，可預先在薄膜上塗布一定乾量的底膠，再經真空鍍鋁，可提高鋁層與薄膜的結合力。而後在鋁膜上塗布一定量的保護樹脂，防止鋁層氧化變質。經此工藝形成的鍍鋁薄膜，耐摩擦，且不易變質。

在基材上預塗膠的原因有三點：

1、填充塑膠成型時的表面粗糙。

2、增加鍍鋁層的附著力，提高附著強度。

3、減少基材與鍍鋁層在加熱過程中內應力的積累和破裂。

鍍膜的方式除了有真空鍍膜，還有光學鍍膜。其中真空鍍膜和光學鍍膜的區別主要在以下方面。

真空鍍膜：真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發並凝結於薄膜表面而形成薄膜的一種方法。即在真空狀態中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射，使其在被塗覆的物體上凝固並沉積的方法。

光學鍍膜：光學鍍膜是指在光學零件表面上鍍上一層

（

或多層

）

金屬

（

或介質

）

薄膜的工藝過程。在光學零件表面鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。普遍方法是藉助真空濺射的方式在玻璃基板上塗鍍薄膜，為了消除光學零件表面的反射損失，提高成像質量，塗鍍一層或多層透明介質膜，稱為增透膜或減反射膜。