中國芯重大突破:國產離子注入機研製成功,重要性僅次於光刻機
簡單講一下離子注入機是幹啥的與光刻機一樣,離子注入機也是晶片製造中必不可少的核心裝置,一直以來,我國離子注入機嚴重依賴外國,國產率極低,特別是百萬伏高能粒子注入機,研製難度極大大家知道,手指甲蓋大小的晶片裡集成了上百億的電晶體,所有的電晶體
中國電科高能離子注入機研製獲重大突破 系晶片製造核心裝備
中新社北京6月27日電 (記者 孫自法)記者27日從中國電子科技集團有限公司(中國電科)獲悉,作為晶片製造的核心關鍵裝備,由該集團旗下電科裝備自主研製的高能離子注入機,已成功實現百萬電子伏特高能離子加速,其效能達國際主流先進水平
離子注入機“跑步”國產化
積體電路裝備是國之重器,張叢說,爍科中科信將繼續著力提高關鍵核心技術創新能力,在積體電路大產線、三代半導體產線以及材料製備領域集中發力,大力推進離子注入機產業化程序,同時,瞄準高階,緊跟先進工藝發展,開展適用於更先進工藝節點的離子注入機的研
天目Tech+ 晶片製造關鍵裝置再突破 一文看懂離子注入機
如今,中束流、大束流、高能、特種應用及第三代半導體等離子注入機全譜系產品國產化訊息傳來,工藝段覆蓋至28nm,為我國晶片製造產業鏈補上重要一環,也為全球晶片製造企業在離子注入機領域提供了更多選擇
全球唯一一家全領域離子注入機提供商,簽訂億元級別12寸晶片裝置
2、後續持續供貨可期,助力國產替代程序凱世通多款12英寸晶圓積體電路裝置,包括低能大束流重金屬離子注入機、低能大束流超低溫離子注入機以及高能離子注入機的驗證及銷售,將會增強公司在積體電路裝備領域核心競爭力,同時進一步豐富擴大凱世通產品的覆蓋
hallwee推薦霍爾器件積體電路晶元製作過程(下)
除氮化矽這裡用乾式氧化法將氮化矽除去離子注入正離子佈置將硼正離子 (B 3) 透過 SiO2 膜引入襯底,產生P型阱離子注入法是利用靜電場加快殘渣正離子,將其引入矽襯底中的方式
晶片製造關鍵裝置又有重大突破,這一次是離子注入機!
根據新華社“新華視點”訊息,中國電子科技集團今日對外宣佈,該集團旗下中電科電子裝備集團有限公司(簡稱“電科裝備”)攻克了系列“卡脖子”技術,已經成功實現離子注入機全譜系產品國產化,包括中束流、大束流、高能、特種應用及第三代半導體等離子注入機