三分鐘,科研小白也能輕鬆掌握PVD鍍膜的知識
2022-07-21由 北京研諾信誠 發表于 農業
磁控濺射工藝為什麼是真空環境
PVD
鍍膜最初並不是在刀具領域首次使用,而在刀具領域的成功應用卻引起了各大製造業的高度重視,人們紛紛開始研發高效能且穩定可靠性強的
塗層裝置的同時
,也在製造業領域上加深對
塗層應用
的
研究
,
而
透過
PVD
鍍膜技術製備出的材料同時具
備
高硬度、低摩擦係數和化學穩定性強等優點。
首先,來跟著小
諾
認識一下什麼
是
PVD
技術
?
我們所知PVD
是英文
Physical Vapor Deposition
的縮寫,它的
#pvd鍍膜材料#中文意思是
“
物理氣相沉積
”
,
它
是指在真空條件下,
通
用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜製備技術。
PVD(
物理氣相沉積
)
技術又為三大類,分別是真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。相對於
PVD
技術的三個分類,相應的真空鍍膜裝置也就有真空蒸發鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機。
PVD
鍍膜技術它的原理呢,是在真空條件下,透過大電流的電弧放電技術,利用氣體放電使靶材蒸發並使被蒸發物質電離,在電場的作用下,使被蒸發物質或其反應產物沉積在工件上。
小
諾
先給大家介紹一下磁控濺射鍍膜的工藝,磁控濺射鍍膜它是在靶材與真空室壁之間先增加電場,
使
其
氬氣電離
,並且使
氬離子加速撞擊靶材表面
。
靶材被亞離子撞擊
,而
靶材原子
則
溢位
並且
以數十甚至上百電子伏特的動能飛向被鍍基片表面並沉積在基底表面
,
原子動能
則
較蒸發高出兩個數量級
,它的
填充密度高達
98%
,折射率較高且相對穩定。
小諾認為
PVD
鍍膜與傳統化學電鍍相比唯一的相同點是,都是透過一定的方式將一種材料覆蓋在另一種材料的表面。但兩者也有不同點,
PVD
膜層與工件表面的結合力更大,膜層的硬度更高,耐磨性和耐腐蝕性更好,膜層的效能也更穩定;
PVD
鍍膜可以鍍的膜層的種類更為廣泛,可以鍍出的各種膜層的顏色也更多,而且不會產生有毒或有汙染的物質。
據小諾所知,濺射鍍膜工藝上具有可重複性、鍍膜厚度可控等特點,這一特點體現在大面積的基板材料上,我們可根據所需要的厚度製作出理想的材料,製備出的薄膜也具有純度高、緻密性好、與材料結合力強等優點。蒸發鍍膜從製造工藝方面來看,蒸鍍材料的製造複雜度要比濺射靶材低一些,蒸發鍍膜它的優點在於工藝簡單便利、操作方便、成膜速度快等。
PVD
真空鍍膜在塑膠行業上
也
有著廣泛的使用,因為塑膠具有容易成型的特點,所以他的成本很低,質量也很輕,
且
具有耐腐蝕等特點,透過
PVD
真空鍍膜可以使塑膠的表面具有導電的效能,而且
PVD
塗層也能夠減少它的吸水率,等鍍膜完成後,針孔也會隨著減少,吸水率也會降低,經過鍍膜的材料表面的金屬光澤被彩色化,裝飾效能也具有很大的提升。
E N D